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工業用純水設備的工藝流程


來源:工業用純水設備    發布日期:2020/5/5 10:42:40

    目前純水設備工藝大都采用膜法工藝(反滲透),使純水制備從傳統的陽離子交換器、脫碳、陰離子交換器、復合離子交換器等發生了一次革命,從此進入了一個無需再生化學品的時代。高科技膜法制備出來的工業純水,其純度可達到18MΩ?CM,且系統穩定。

    原水箱→原水泵→多介質過濾器→活性碳過濾器→軟水器(視具體水質好壞)→保安過濾器→一級反滲透→生產線用水點  

純水設備的應用領域:

    微電子行業包括了電解電容器生產、電子管生產、顯像管和陰極射線管生產、黑白顯像管熒光屏生產、液晶顯示器的生產、晶體管生產、集成電路生產、單晶硅、多晶硅生產、電子新材料生產等生產工藝,都需要工業純水。 

    電子、半導體、液晶顯示、光伏工業生產在制作過程中,往往需要使用極其純凈的超純水。如果純水水質達不到生產工藝用水的要求或者水質不穩定的話,會影響到后續工藝的處理效果和使用壽命。在光伏行業電子管生產中,如其中混入雜質,就會影響電子的發射,進而影響電子管的放大性能及壽命,在顯像管和 陰極射線管生產中,其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質,如其配制純水中含銅在8ppb以上,就會引起發光變色;含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃動并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。

    在黑白顯像管熒光屏生產的12個工序中,玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5工序需使用純水,每生產一個晶體管需高純水80kg。液晶顯示器的屏面需有純水清洗和用純水配液,如純水中有金屬離子、微生物、微粒等雜質,就會使液晶顯示電路發生故障,影響液晶屏質量,導致報廢、次品。在晶體管、集成電路生產中,純水主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制,硅片氧化的水汽源,部分設備的冷卻水,配制電鍍液等。集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。水中的堿金屬(K、Na)會使絕緣膜耐壓不良,重金屬(Au、Ag、Cu)會使PN結耐壓降低,III族元素(B、Al、Ga)會使N型半導體特性惡化,V族素(P、As、Sb)會使P型半導體特性惡化,水中細菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20%~50%)會使P型硅片上的局部區域變化為N型硅而導致器件性能變壞。水中的顆粒(包括細菌)如吸附在硅片表面,就會引起電路短路或特性變差。因此水的質量相當重要。采用反滲透加EDI的脫鹽工藝,可以達到超純水標準。

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